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Peças PEEK

                

                
  • Clipe de Wafer de PEEK
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Clipe de Wafer de PEEK

Tamanho: 4", 5", 6", 8", 12" e Não Padrão.

Ferramenta manual de PEEK, uma ferramenta para inspeção manual de wafers.

O PEEK não contém elementos halogenados e não contamina os wafers de semicondutores.

Descripción

Clipe de Wafer de PEEK


O polímero PEEK é um termoplástico de alto desempenho. Suas excelentes propriedades abrangentes são especialmente projetadas para atender aos crescentes requisitos da indústria eletrônica, como os grampos de obleas de PEEK.


1, Resistência a altas temperaturas: Com resistência ao calor de até 300°C, pode manter sua resistência e estabilidade dimensional em altas temperaturas de processos de soldagem sem chumbo. A temperaturas de 250-280°C, não haverá deformação e refluxo dentro de 5-10 segundos;


2, Resistência ao desgaste: alta resistência mecânica e resistência ao desgaste;


3, Estabilidade dimensional: Materiais de grau de enchimento reduzem o coeficiente de expansão térmica, aumentam a temperatura de deformação térmica e garantem um controle dimensional estrito;


4, Baixa emissão de gases: Reduz a contaminação e melhora a confiabilidade em aplicações onde os acessórios têm requisitos de pureza (como discos rígidos, caixas de obleas);


5, Baixa higroscopicidade: Muito importante para manter a estabilidade dimensional e o desempenho de isolamento.


Os grampos de obleas de PEEK e as pinças de obleas de silício podem ser usados por longos períodos a uma temperatura de 260°C. Eles podem manter alta resistência em altas temperaturas, têm boa estabilidade dimensional e um pequeno coeficiente de expansão linear. Ao mesmo tempo, possuem excelentes propriedades, como resistência ao desgaste por deslizamento e desgaste por fricção, e um baixo coeficiente de atrito. Ao usar grampos de obleas de PEEK para prender obleas e obleas de silício, não serão causados arranhões na superfície das obleas e obleas de silício, e nenhum resíduo será produzido nas obleas e obleas de silício devido ao atrito, melhorando assim a limpeza superficial das obleas e obleas de silício.


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