O processo CMP (Polimento Químico-Mecânico) é essencial na fabricação de semicondutores.
O anel retentor CMP é um consumível essencial, proporcionando fixação e suporte ao wafer. Com o aumento da complexidade dos processos, crescem as exigências sobre os materiais.
O Polieteretercetona (PEEK), graças à sua resistência térmica, inércia química, resistência mecânica e baixíssima contaminação, tornou-se o material ideal para anéis retentores CMP premium. Este artigo explora os aspectos técnicos dos anéis CMP e o papel avançado do PEEK.
O CMP combina corrosão química com polimento mecânico para nivelar superfícies de wafers removendo camadas dielétricas irregulares.
Os materiais processados incluem dióxido de silício, tungstênio e cobre.
Principais consumíveis:
Slurry
Almofadas de polimento
Condicionadores de almofada
Anéis retentores CMP
Membranas
Fixação do wafer:
Garante que o wafer permaneça estável sob pressão e rotação.
Melhoria da uniformidade:
Evita sobrepolimento nas bordas.
Proteção das bordas:
Previne lascas e rachaduras.
A precisão do anel influencia diretamente o rendimento e qualidade.
Pressão e fricção elevadas
Desgaste constante
Necessidade de estabilidade dimensional
Cada etapa CMP pode usar slurry diferente, exigindo materiais resistentes.
Resistência mecânica e ao desgaste
Estabilidade dimensional
Baixa contaminação
Alta precisão
Resistência a altas temperaturas
Inércia química
Alta resistência mecânica
Longevidade muito maior que materiais convencionais
Anel com inserto colado:
Com riscos de contaminação pelo adesivo.
Anel sobremoldado:
Totalmente revestido em plástico — ideal para processos ultra limpos.
Ambos podem ser feitos de PEEK, mas a demanda por sobremoldados cresce.
O ARKPEEK-1000:
Alta pureza
Excelente resistência a impactos
Estabilidade dimensional
Propriedades químicas, elétricas e anti-chama
Formulações personalizadas
ARKPEEK apoia a indústria chinesa de semicondutores com soluções inovadoras.
Com a evolução dos semicondutores, o PEEK consolida-se como material preferido para anéis retentores CMP de alto desempenho.